2024年01月16日 21:05:06
清溢光電:正在推進(jìn)130nm-65nm PSM和OPC工藝的掩膜版開發(fā)
財(cái)聯(lián)社1月16日電,清溢光電發(fā)布的投資者關(guān)系活動(dòng)記錄顯示,公司于1月11日接受恒生前?;稹⑸姓?、格林基金管理有限公司等約40家機(jī)構(gòu)的調(diào)研。清溢光電表示,公司已實(shí)現(xiàn)180nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體芯片掩膜版的量產(chǎn),已實(shí)現(xiàn)150nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體芯片掩膜版的客戶測試認(rèn)證。目前,公司正在推進(jìn)130nm-65nm的PSM和OPC工藝的掩膜版開發(fā)和28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開發(fā)規(guī)劃。
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