荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥全球高級(jí)副總裁、中國(guó)區(qū)總裁沈波在進(jìn)博會(huì)期間接受專訪時(shí)表示，今年阿斯麥中國(guó)的業(yè)務(wù)增長(zhǎng)很快，預(yù)期全年中國(guó)占阿斯麥全球的營(yíng)收會(huì)超過(guò)20%，對(duì)明年在中國(guó)的業(yè)務(wù)也非常的樂(lè)觀。沈波表示：“我們2023年在中國(guó)的招聘是超過(guò)200人的，2024年我們預(yù)計(jì)業(yè)務(wù)的發(fā)展會(huì)繼續(xù)帶來(lái)很多需求，我們的團(tuán)隊(duì)的擴(kuò)充應(yīng)該還會(huì)是一個(gè)相對(duì)比較大的規(guī)模?！?/p>

光掩膜版作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游核心材料之一，對(duì)于光刻工藝的重要性不弱于光刻機(jī)、光刻膠，是半導(dǎo)體與集成電路芯片制造過(guò)程中不可或缺的重要組件，其份額僅次于硅片。民生證券指出，隨著我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占全球比重的逐步提升，我國(guó)半導(dǎo)體掩膜版市場(chǎng)規(guī)模也逐步擴(kuò)大。目前國(guó)內(nèi)廠商逐步縮小與海外龍頭企業(yè)的技術(shù)差距，行業(yè)的景氣度有望持續(xù)旺盛，國(guó)產(chǎn)廠商有望迎來(lái)業(yè)績(jī)的高速增長(zhǎng)。

據(jù)財(cái)聯(lián)社主題庫(kù)顯示，相關(guān)上市公司中：

清溢光電已實(shí)現(xiàn)180nm工藝節(jié)點(diǎn)半導(dǎo)體芯片掩膜版的客戶測(cè)試認(rèn)證及量產(chǎn)，同步開(kāi)展130nm-65nm半導(dǎo)體芯片掩膜版的工藝研發(fā)和28nm半導(dǎo)體芯片所需的掩膜版工藝開(kāi)發(fā)規(guī)劃。

冠石科技投資建設(shè)的光掩膜版項(xiàng)目目前處于建設(shè)階段，通過(guò)本次募投項(xiàng)目的建設(shè)，公司將具備半導(dǎo)體光掩膜版的規(guī)?；a(chǎn)能力。