財(cái)聯(lián)社9月27日訊（編輯 史正丞）全球光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)終于迎來了一個有些“不一樣”的新產(chǎn)品——日本佳能公司本周宣布，成功交付首臺新型納米壓印光刻機(jī)。

（來源：佳能公司官網(wǎng)）

這里首先需要解釋一下，佳能的納米壓印光刻（NIL）系統(tǒng)，與阿斯麥的光刻技術(shù)有什么區(qū)別。

傳統(tǒng)的光刻機(jī)通過將電路圖案投影到涂有光刻膠的晶圓上來轉(zhuǎn)移電路圖案，佳能的設(shè)備則是通過將“印有電路圖案的掩模像印章一樣壓入晶圓上的光刻膠中”來生產(chǎn)芯片。由于電路圖案的轉(zhuǎn)移不需要通過光學(xué)機(jī)制，掩模上的精細(xì)電路圖案可以在晶圓上忠實(shí)再現(xiàn)。

佳能在去年十月發(fā)布了全球首臺商業(yè)化納米壓印光刻系統(tǒng)FPA-1200NZ2C，公司表示這款設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)最小線寬為14納米的電路圖案，相當(dāng)于當(dāng)前生產(chǎn)先進(jìn)邏輯半導(dǎo)體用到的5納米節(jié)點(diǎn)。

關(guān)鍵優(yōu)勢是便宜

佳能表示，相較于傳統(tǒng)光刻機(jī)需要復(fù)雜的光學(xué)鏡片構(gòu)造，納米壓印設(shè)備的構(gòu)造更為簡單，功耗僅需十分之一。同時還能通過單次壓印形成復(fù)雜的三維電路圖案，能夠處理用于最先進(jìn)邏輯芯片的極細(xì)電路。

這條芯片制造路線的開發(fā)從2014年啟動。去年底開始，佳能與鎧俠 (Kioxia)、大日本印刷合作開始銷售這款設(shè)備。

這次交付的首臺設(shè)備將被送往美國得克薩斯電子研究所。這是得克薩斯大學(xué)奧斯汀分校支持的一個團(tuán)體，成員包括英特爾和其他芯片公司、公共部門和學(xué)術(shù)組織。這臺設(shè)備將被用于芯片制造的研究與開發(fā)工作。

佳能光學(xué)產(chǎn)品副首席執(zhí)行官Kazunori Iwamoto對媒體表示，公司計(jì)劃在未來3-5年內(nèi)，每年銷售10-20臺此類設(shè)備。

對于佳能來說，進(jìn)一步推廣納米壓印技術(shù)也存在一些挑戰(zhàn)。首先由于“壓印”的物理機(jī)制，這種光刻機(jī)需要更先進(jìn)的技術(shù)防止細(xì)小的塵埃顆粒造成芯片缺陷。同時由于芯片制造涉及廣泛的產(chǎn)業(yè)鏈，拓展更多公司、特別是材料企業(yè)加入“納米壓印產(chǎn)業(yè)鏈”對于佳能來說也非常重要。